Auf dem Gebiet der Elektrochemie wird Platin als Anodenmaterial verwendet, das eine hervorragende Leistung aufweist. Insbesondere im Prozess der elektrochemischen anodischen Sauerstoffentwicklung in einem sauren Medium hat Platin keine Oxidationsbeständigkeit und Elektrokatalyseleistung, die andere Materialien haben. Platin wird als Anodenmaterial in vielen wichtigen Bereichen der elektrochemischen Produktion eingesetzt, wie zB Wasserstoffperoxid, Ammoniumpersulfat etc. Platinressourcen sind jedoch knapp und teuer. Um die Kosten zu senken und die hervorragende Leistung von Platinanoden aufrechtzuerhalten, wurden platinbeschichtete Anodenmaterialien untersucht, um reine Platinelektrodenprodukte zu ersetzen, und es wurden gute Ergebnisse erzielt.
Die platinierte Titananode ist ein Platinbeschichtungsverfahren auf Titanbasis. Auf der Titanoberfläche wird eine Schicht aus reinem Platin abgeschieden. Der Prozessablauf der platinbeschichteten Titananode ist wie folgt:
Vorbehandlung des Titanblechs → Elektroreinigung → Waschen mit Wasser → Aktivierung → Waschen mit destilliertem Wasser → Bürstenplattieren mit Platin → Waschen mit destilliertem Wasser → Trocknen
Die grundlegenden Spezifikationen sind wie folgt:
Basismaterial: Titan (Gr1, Gr2, TA1, TA2)
Form: netzartig, tafelförmig, röhrenförmig oder nach Kundenwunsch angepasst
Stromdichte: ＜ 8000 A/m2
Herstellungsverfahren: Galvanisieren
Beschichtungsmaterial: Platin (Reinheit 99,99 Prozent)
Edelmetallgehalt: Größer oder gleich 21,48 g/㎡
Dicke der Platinschicht: 0.3-15 μm
Temperatur: ＜ 80 Grad
PH-Wert: 1-12
