I. Die Korrosionswirkung von Essigsäure auf reines Titan
Reines Titan ist ein hochreaktives metallisches Material, das mit vielen sauren Substanzen, einschließlich Essigsäure, reagiert. Wasserstoffionen in Essigsäure können sich mit Sauerstoffatomen auf der Oberfläche von reinem Titan verbinden und einen schützenden Titanoxidfilm bilden. Bei einer zu hohen Essigsäurekonzentration wird dieser Schutzfilm jedoch zerstört, wodurch das Reintitan der Essigsäure ausgesetzt wird und es zu Korrosion kommt.
II. Gründe für die Essigsäurekorrosion von reinem Titan
Der Hauptgrund für die Essigsäurekorrosion von reinem Titan ist die Zerstörung des Titanoxid-Schutzfilms. Wasserstoffionen in Essigsäure können mit Titanoxid zu Wasser und Acetationen reagieren und dabei Elektronen freisetzen. Diese Elektronen können auf der Oberfläche von reinem Titan eine Wasserstoffionenschicht bilden und Korrosion verursachen.
III. So verhindern Sie die Essigsäurekorrosion von reinem Titan
Um die Essigsäurekorrosion von Reintitan zu verhindern, können wir folgende Maßnahmen ergreifen:
1. Kontrollieren Sie die Essigsäurekonzentration. Durch eine angemessene Kontrolle der Essigsäurekonzentration und die Vermeidung übermäßiger Konzentrationen kann die Beschädigung des Titanoxid-Schutzfilms verringert werden.
2. Wählen Sie eine geeignete Reinheit. Durch die Wahl von hochreinem Titan werden Verunreinigungen reduziert und die Korrosionsbeständigkeit erhöht.
3. Oberflächenbehandlung hinzufügen. Das Anbringen eines Schutzfilms, beispielsweise einer Beschichtung oder einer elektrochemischen Oxidation, auf der Oberfläche von reinem Titan kann dessen Korrosionsbeständigkeit verbessern.
In Bezug auf die Materialauswahl legt die Norm ASTM B265 fest, dass industrielles Reintitan (Gr2) für Essigsäureumgebungen mit Temperaturen unter 150 Grad und Konzentrationen unter 40 % geeignet ist. Für anspruchsvollere Bedingungen sollten Titan-Palladiumlegierungen (wie Gr7 und Gr11) verwendet werden. Durch die Zugabe von Palladium verschiebt sich das Selbstkorrosionspotential der Legierung um 200–300 mV, wodurch die Stabilität des Passivierungsfilms deutlich verbessert wird.
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